據(jù)韓科信部報(bào)道，韓美聯(lián)合研究團(tuán)隊(duì)利用單原子層水平粗糙度的超平銅薄膜，在理論和實(shí)驗(yàn)中首次驗(yàn)證了銅的氧化原理。查明氧氣進(jìn)入途徑及開發(fā)防止氧氣自行氧化的薄膜技術(shù)。相關(guān)研究成果發(fā)表在《自然》上。

經(jīng)1年持續(xù)使用高分辨率透射電子顯微鏡觀測(cè)暴露在空氣中的超平銅薄膜，研究人員沒有觀察到銅表面的自然氧化物膜和原子層面的氧化。計(jì)算氧氣進(jìn)入銅內(nèi)部的能量變化的結(jié)果顯示，當(dāng)表面粗糙度在兩個(gè)原子層以上時(shí)，氧氣很容易滲透到銅內(nèi)部，但在完全平坦的表面或單原子層時(shí)，氧氣滲透需要很大能量，因此常溫下不會(huì)發(fā)生氧化。同時(shí)超平薄膜表面存在的氧氣具有始終維持在50％的自我調(diào)節(jié)功能。

注：本文摘自國(guó)外相關(guān)研究報(bào)道，文章內(nèi)容不代表本網(wǎng)站觀點(diǎn)和立場(chǎng)，僅供參考。

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